机译:Si3N4-SiO2和SiO2绝缘层对零偏压CMUT操作的比较使用介质充电效应
Hanyang Univ Dept Mech Convergence Engn Seoul 04763 South Korea;
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Dielectrics; Sensitivity; Insulation; Acoustics; Silicon; Temperature measurement; Thermal stability; Capacitive micromachined ultrasonic transducer (CMUT); dielectric charging; zero bias;
机译:在两层Si3N4 / SiO2介电掩模上,用于与AlGaN / GaN HEMT的低电阻欧姆接触
机译:具有SiO2 / Si3N4 / SiO2多层绝缘体的酞菁锌薄fi lm效应晶体管
机译:电子照射辅助光电子发射的纳米层Si3N4和SiO2的电荷陷阱分析
机译:Si3N4厚度对PECVD SiO2 / Si3N4双层驻极体性能的影响
机译:芯片级互连中电介质中导电行为的研究:Al / SiO2互连中缺陷的检测
机译:具有高K原子层沉积介电材料绝缘层的CMUT
机译:纳米Mnosfet的横向电容,单电荷捕获在氧化物层或SiO2 - Si3N4