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机译:2000-2500 K温度和10〜5 Pa压力下W-O_2系统中复合氧化物的形成
Shubnikov Institute of Crystallography, Russian Academy of Sciences, Leninskii pr. 59, Moscow, 119333 Russia;
Shubnikov Institute of Crystallography, Russian Academy of Sciences, Leninskii pr. 59, Moscow, 119333 Russia;
Shubnikov Institute of Crystallography, Russian Academy of Sciences, Leninskii pr. 59, Moscow, 119333 Russia;
机译:在2000-2500 K的温度和1 Pa的压力下在W-O_2系统中形成钨氧化物
机译:W-A1_2O_3体系中钨在2350至2500 K的温度和1至10〜5 Pa的压力下的氧化
机译:固体氧化物燃料电池互连应用在氧气压力为10(5)Pa的Co-40Mn涂层上尖晶石反应层的形成和性能
机译:在10〜(3)PA范围内的压力发电的主要标准(-3)PA至10〜(3)PA
机译:简单分子系统在极端压力和温度下的化学和物理转化。
机译:温度压力和速度对PA66和PA46聚酰胺的摩擦学性能的影响
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机译:复合二硅化物涂层 - Ta-10W合金体系在1700至2700 F温度下的氧化行为