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Investigation of plasma dynamics during the growth of amorphous titanium dioxide thin films

机译：非晶态二氧化钛薄膜生长过程中的等离子体动力学研究

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摘要

We have grown amorphous titanium dioxide thin films by reactive DC sputtering method using a different argon/oxygen partial pressure at a room temperature. The plasma dynamics of the process, reactive and sputtered gas particles was investigated via optical emission spectroscopy. We then studied the correlations between the plasma states and the structural/optical properties of the films. The growth rate and morphology of the titanium dioxide thin films turned out to be contingent with the population and the energy profile of Ar, O, and TiO plasma. In particular, the films grown under energetic TiO plasma have shown a direct band-to-band transition with an optical energy band gap up to similar to 4.2 eV. (C) 2018 The Japan Society of Applied Physics.
机译：我们已经在室温下使用不同的氩/氧分压通过反应性直流溅射法生长了非晶态二氧化钛薄膜。通过光发射光谱研究了该过程，反应性气体和溅射气体的等离子体动力学。然后，我们研究了等离子体状态与薄膜结构/光学性质之间的相关性。事实证明，二氧化钛薄膜的生长速率和形态取决于Ar，O和TiO等离子体的数量和能量分布。尤其是，在高能TiO等离子体下生长的薄膜显示出直接的带间跃迁，其光能带隙高达4.2 eV。 （C）2018年日本应用物理学会。

著录项

  • 来源
    《Japanese journal of applied physics》 |2018年第6s1期|06HE01.1-06HE01.5|共5页
  • 作者

    Kim Jin-Soo; Jee Hyeok; Yu Young-Hun; Seo Hye-Won;

  • 作者单位

    Jeju Natl Univ, Dept Phys, Jeju 63243, South Korea;

    Jeju Natl Univ, Dept Phys, Jeju 63243, South Korea;

    Jeju Natl Univ, Dept Phys, Jeju 63243, South Korea;

    Jeju Natl Univ, Dept Phys, Jeju 63243, South Korea;

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