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机译:通过光化学蚀刻对表面粗糙化的半极性(11(2)over-bar2)GaN薄膜进行各向异性导电
Dankook Univ, Dept Chem Engn, Yongin 16890, Gyeonggi, South Korea;
Dankook Univ, Dept Chem Engn, Yongin 16890, Gyeonggi, South Korea;
Hongik Univ, Sch Mat Sci & Engn, Jochiwon 30016, Sejong, South Korea;
机译:在半极性(11-22),(10-11)和(10-13)取向GaN衬底上生长的GaN膜的对称性和各向异性激子响应
机译:改进的Semipolar Green IngaN / GaN量子孔在不对称生长(11(2)覆盆子2)GaN模板及其相关性
机译:成核层对M平面蓝宝石的半极(11(2)覆盆子2)GaN的Movpe生长的影响
机译:半极性(11-22)GaN膜的掺杂剂依赖性化学湿蚀刻现象
机译:高能(约100s eV)氧原子中性束对聚合物膜的各向异性刻蚀
机译:使用两步横向外延过生长过滤半极性(11-22)GaN中的缺陷
机译:GaN体衬底上的半极性(11(2)-bar2)GaN和InGaN / GaN量子阱的外延生长和光学性质
机译:表面卤化激光光化学法研究钼和钨薄膜