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【24h】

Bubble-free high-speed UV nanoimprint lithography using condensable gas with very low global warming potential

机译：使用具有极低全球变暖潜能的可冷凝气体进行的无气泡高速UV纳米压印光刻

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Bubble-free filling needs to be achieved to realize high-throughput mass production in ultraviolet nanoimprint lithography (UV-NIL). Although bubble-free filling can be accomplished by performing UV-NIL under vacuum, nonvacuum processes can lower equipment and operation costs. UV-NIL in 1,1,1,3,3-pentafluoropropane (PFP) has been recognized as a promising method of realizing ultrahigh-speed UV-NIL; however, the global warming potential (GWP) of PFP of 1030 might restrict its industrial use. In this work, UV-NIL of a spin-coated UV-curable resin in trans-1-chloro-3,3,3-trifluoropropene (CTFP), which has a low GWP of <5, was studied with the aim of identifying an alternative to PFP. The cavity filling speed of resin and mold release force in CTFP were comparable to those in PFP, and superior to those in helium atmosphere. Sub-100nm patterns were successfully fabricated by UV-NIL in CTFP, although the line width shrinkage ratio of patterns fabricated in CTFP was slightly larger than that of patterns fabricated in PFP. (C) 2016 The Japan Society of Applied Physics
机译：为了实现紫外线纳米压印光刻（UV-NIL）的高通量批量生产，需要实现无气泡填充。尽管可以通过在真空下进行UV-NIL来实现无气泡填充，但是非真空工艺可以降低设备和运行成本。 1,1,1,3,3-五氟丙烷（PFP）中的UV-NIL被认为是实现超高速UV-NIL的一种有前途的方法。但是，1030年PFP的全球变暖潜力（GWP）可能会限制其工业用途。在这项工作中，研究了旋涂的可紫外固化树脂在反渗透-1-氯-3,3,3-三氟丙烯（CTFP）中的GWP <5的低值，目的是鉴定PFP的替代品。在CTFP中，树脂的模腔填充速度和脱模力与PFP中的相当，并且优于氦气中的情况。尽管在CTFP中制造的图形的线宽收缩率比在PFP中制造的图形的线宽收缩率稍大，但通过UV-NIL在CTFP中成功制造了100nm以下的图形。 （C）2016年日本应用物理学会

著录项

  • 来源
    《Japanese journal of applied physics》 |2016年第7期|076502.1-076502.5|共5页
  • 作者

    Suzuki Kenta; Youn Sung-Won; Hiroshima Hiroshi;

  • 作者单位

    Natl Inst Adv Ind Sci & Technol, Tsukuba, Ibaraki 3058564, Japan;

    Natl Inst Adv Ind Sci & Technol, Tsukuba, Ibaraki 3058564, Japan;

    Natl Inst Adv Ind Sci & Technol, Tsukuba, Ibaraki 3058564, Japan;

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