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Extreme-ultraviolet collector mirror measurement using large reflectometer at NewSUBARU synchrotron facility

机译：在新SUBARU同步加速器设施中使用大型反射计测量极紫外收集镜

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摘要

In extreme-ultraviolet (EUV) lithography, the development of high-power EUV sources is one of the critical issues. The EUV output power directly depends on the collector mirror performance. Furthermore, mirrors with large diameters are necessary to achieve high collecting performance and take sufficient distance to prevent heat and debris from a radiation point of the source. Thus collector mirror development with accurate reflectometer is important. We have developed a large reflectometer at BL-10 beamline of the NewSUBARU synchrotron facility that can be used for mirrors with diameters, thicknesses, and weights of up to 800 mm, 250mm, and 50 kg, respectively. This reflectometer can measure reflectivity with fully s-polarized EUV light. In this study, we measured the reflectance of a 412-mm-diameter EUV collector mirror using a maximum incident angle of 36 degrees. We obtained the peak reflectance, center wavelength and reflection bandwidth results and compared our results with Physikalisch-Technische Bundesanstalt results. (C) 2016 The Japan Society of Applied Physics
机译：在极紫外（EUV）光刻中，高功率EUV光源的开发是关键问题之一。 EUV输出功率直接取决于集电极镜的性能。此外，必须使用大直径的反射镜才能获得较高的收集性能，并需要足够的距离以防止热量和来自源辐射点的碎屑。因此，使用精确的反射计开发集光镜非常重要。我们在NewSUBARU同步加速器设施的BL-10光束线上开发了一个大型反射仪，该反射仪可用于直径，厚度和重量分别高达800毫米，250毫米和50公斤的镜子。该反射仪可以测量完全s偏振的EUV光的反射率。在这项研究中，我们使用最大入射角为36度，测量了直径为412毫米的EUV集光镜的反射率。我们获得了峰值反射率，中心波长和反射带宽结果，并将我们的结果与Physikalisch-Technische Bundesanstalt结果进行了比较。 （C）2016年日本应用物理学会

著录项

  • 来源
    《Japanese journal of applied physics》 |2016年第6s1期|06GC01.1-06GC01.5|共5页
  • 作者

    Iguchi Haruki; Hashimoto Hiraku; Kuki Masaki; Harada Tetsuo; Kinoshita Hiroo; Watanabe Takeo; Platonov Yuriy Y.; Kriese Michael D.; Rodriguez Jim R.;

  • 作者单位

    Univ Hyogo, Ctr EUV Lithog, Lab Adv Sci & Technol Ind, Kamigori, Hyogo 6781205, Japan;

    Univ Hyogo, Ctr EUV Lithog, Lab Adv Sci & Technol Ind, Kamigori, Hyogo 6781205, Japan;

    Univ Hyogo, Ctr EUV Lithog, Lab Adv Sci & Technol Ind, Kamigori, Hyogo 6781205, Japan;

    Univ Hyogo, Ctr EUV Lithog, Lab Adv Sci & Technol Ind, Kamigori, Hyogo 6781205, Japan;

    Univ Hyogo, Ctr EUV Lithog, Lab Adv Sci & Technol Ind, Kamigori, Hyogo 6781205, Japan;

    Univ Hyogo, Ctr EUV Lithog, Lab Adv Sci & Technol Ind, Kamigori, Hyogo 6781205, Japan;

    Rigaku Innovat Technol, Auburn Hills, MI 48326 USA;

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