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机译:石墨烯/ Al_2O_3界面处的水陷阱
Department of Materials Science and Engineering, Hanyang University, Seoul 133-791, Korea;
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机译:Al的低温氧化法制备Al_2O_3与Al_2O_3界面处近界面陷阱的低密度。
机译:Al_2O_3 / 4H-SiC与Al_2O_3 / SiO_2 / 4H-SiC结构中近界面陷阱的比较
机译:AL_2O_3,HFO_2和HFO_2 / AL_2O_3电介质界面捕集ALN / GAN异质结构的表征
机译:使用差速器3-Omega技术表征CVD-生长的石墨烯/ AL_2O_3和石墨烯/金属界面的热阻
机译:金属氧化物半导体器件中硅/二氧化硅界面粗糙度和界面捕获电荷的低温测量。
机译:在水/水界面处捕获和组装活体胶体
机译:石墨烯场效应器件中的界面陷阱:提取方法和 对特征的影响