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机译:金属有机化学气相沉积一步法生长石墨烯/石墨包覆的SiC纳米线
Graduate School of Science, Osaka University, Toyonaka, Osaka 560-0043, Japan;
Graduate School of Science, Osaka University, Toyonaka, Osaka 560-0043, Japan;
Institute for NanoScience Design, Osaka University, Toyonaka, Osaka 560-8531, Japan;
机译:通过插入通过有机金属化学气相沉积法在6H-SiC衬底上生长的薄SiNx中间层而合成的无裂纹AlGaN / GaN分布布拉格反射器
机译:使用单一来源的金属有机前体通过液体喷射化学气相沉积法生长的SiC涂层
机译:具有低温金属有机化学气相沉积生长的AI_2O_3栅绝缘体的高沟道迁移率4H-SiC金属氧化物半导体场效应晶体管
机译:通过化学气相沉积法在4H-SiC衬底上生长的SiC纳米线
机译:通过固体源金属有机化学气相沉积法生长的外延氧化物薄膜。
机译:SiC化学气相沉积生长外延石墨烯晶界应变松弛的拉曼研究
机译:使用单一来源的金属有机前体通过液体喷射化学气相沉积法生长的SiC涂层