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Study of Acid-Base Equilibrium in Chemically Amplified Resist

机译：化学放大抗蚀剂中酸碱平衡的研究

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Protons generated in chemically amplified resists drive pattern formation reactions such as acid catalytic deprotection reactions. Proton dynamics is controlled by the addition of base quenchers so that ultrafine patterns are obtained. However, the details of interaction between protons and base quenchers are still unclear. In this study, we investigated the reactions of protons with base quenchers in a model system of chemically amplified resists with a typical backbone polymer, poly(4-hydroxystyrene). We confirmed that an acid-base equilibrium was reached in the model system without elevating the temperature of the films. The proton affinities of resist ingredients give us a general estimation of protonation sites. When the proton affinities of resist ingredients are close to each other, we have to take into account acid-base equilibrium using pΚ_a for the accurate prediction of protonation sites.
机译：化学放大后产生的质子可抵抗驱动图案形成反应，例如酸催化脱保护反应。质子动力学可通过添加碱淬灭剂来控制，从而获得超精细图案。但是，质子和碱猝灭剂之间相互作用的细节仍然不清楚。在这项研究中，我们研究了质子与碱猝灭剂在化学放大的抗蚀剂与典型骨架聚合物聚（4-羟基苯乙烯）模型系统中的反应。我们确认在模型系统中达到了酸碱平衡，而没有提高薄膜的温度。抗蚀剂成分的质子亲和力为我们提供了质子化位点的一般估计。当抗蚀剂成分的质子亲和力彼此接近时，我们必须考虑使用pΚ_a的酸碱平衡来精确预测质子化位点。

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