...
机译:硬X射线光电子能谱法分析界面层对相变记录材料的影响
Corporate Research and Development Center, Toshiba Corporation, 1 Komukai Toshiba-cho, Saiwai-ku, Kawasaki 212-8582, Japan;
phase-change recording media; interface layer; rewritable HD DVD; GeBiTe (GBT) alloy; fast overwrite; high data transfer rate; HX-PES; valence band; density of states (DOS);
机译:X射线光电子能谱分析氧化物纳米材料薄层结构状态的可能性
机译:用硬X射线光电子能谱研究的反应性金属 - 有机界面:金属气相沉积期间金属卟啉间层的控制形成在卟啉膜上
机译:硬X射线光电子能谱分析Mg浓度对Mg掺杂InN外延层能带深度分布的影响
机译:Li-O_2电池的反应机理分析:通过软X射线吸收光谱,硬X射线光电子能谱和原位硬X射线衍射探测的电极/电解质界面结构
机译:LaNiO3 / SrTiO 3超晶格及其界面的硬和软X射线驻波光电子能谱和角分辨光电子能谱研究。
机译:各种清洗方法对水基缓冲层浸涂Ni-5%W衬底的影响:X射线光电子能谱研究
机译:Ti3AlC2,Ti3C2TZ和TIC的X射线光电子能量提供了最大相材料中夹层层之间的静电相互作用的证据