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【24h】

Fabrication of Low Line Edge Roughness Mold by Spin On Glass (SOG) Replica Method

机译：用旋涂玻璃（SOG）复制法制造低线边缘粗糙度模具

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This paper reports on the fabrication of a low line edge roughness (LER) mold by the spin on glass (SOG) replica method. The fabrication technique provides a transparent mold with a low LER. In the mold fabrication, the combination of a low LER Si master mold made by anisotropic wet etching and the SOG replica process is effective in reducing fluctuation of the transparent mold pattern. Using this method, we could obtain an LER of SOG replica mold as low as 0.80 nm. When this SOG replica mold was used for photo-nanoimprint, the LER of the patterns on the photocurable polymer, used for the process, was found to be 0.86 nm which is considered quite comparable to the LER of the patterns on the Si master mold. Moreover, using the SOG replica mold, we also nanoimprinted a 60 nm line and space (L/S) pattern with an aspect ratio of 2 and 30 nm L/S patterns.
机译：本文报道了通过旋涂玻璃（SOG）复制方法制造的低线边缘粗糙度（LER）模具的过程。该制造技术提供了一种具有低LER的透明模具。在模具制造中，通过各向异性湿法蚀刻制成的低LER Si主模具与SOG复制工艺的组合可有效减少透明模具图案的波动。使用这种方法，我们可以获得低至0.80 nm的SOG复制模具的LER。当将该SOG复制品模具用于光纳米压印时，发现用于该工艺的光固化聚合物上的图案的LER为0.86nm，这被认为与Si主模具上的图案的LER相当。此外，使用SOG复制模具，我们还纳米压印了长宽比分别为2和30 nm的L / S图案的60 nm线和间隔（L / S）图案。

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