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Calibrations of Phase Modulation Amplitude of Photoelastic Modulator

机译：光弹性调制器调相幅度的​​标定

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A multiple harmonic intensity ratio technique is proposed for calibrating the modulation amplitude (Δ_0) of a photoelastic modulator (PEM). A data acquisition system is utilized to investigate the frequency response of this technique. Δ_0 determined by this technique is independent of frequency, which is proved using the reflection and transmission setups. In addition to confirm our calibration using the digitized oscilloscope waveform, we also obtain a set of ellipsometric parameters under various values of Δ_0 before and after calibration. We also introduce a correction factor to correct the effect caused by the shift of the modulation amplitude in the process of etching. An optical thick film is used to calibrate Δ_0 using PEM ellipsometry, and its refractive index and extinction coefficient are also obtained in etching. Finally, we suggest the use of the traces of the ellipsometric parameters under various thicknesses for monitoring instead of calculating the thickness in real time.
机译：提出了一种多谐波强度比技术，用于校准光弹性调制器（PEM）的调制幅度（Δ_0）。利用数据采集系统来研究该技术的频率响应。通过该技术确定的Δ_0与频率无关，这可以通过反射和透射设置来证明。除了使用数字示波器波形确认我们的校准外，我们还获得了在校准前后各种Δ_0值下的椭偏参数集。我们还引入了一个校正因子，以校正蚀刻过程中调制幅度偏移引起的影响。使用光学厚膜通过PEM椭圆偏振法校准Δ_0，并且在蚀刻中也获得其折射率和消光系数。最后，我们建议使用在各种厚度下的椭偏参数迹线进行监视，而不是实时计算厚度。

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