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首页> 外文期刊>Japanese journal of applied physics >Manipulation of magnetic properties of ferromagnetic Ni thin films grown on Cu(001) by antiferromagnetic NiO and effects of voltage application
【24h】

Manipulation of magnetic properties of ferromagnetic Ni thin films grown on Cu(001) by antiferromagnetic NiO and effects of voltage application

机译：反铁磁NiO对在Cu（001）上生长的铁磁Ni薄膜的磁性能的控制和施加电压的影响

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The magnetic properties of ferromagnetic Ni thin films grown on a Cu(001) single crystal are modified by the growth of a NiO overlayer, as well as by the voltage application through the NiO/Ni interface. A spin reorientation transition from in-plane to perpendicular magnetization is induced with increasing NiO thickness, and the coercive field significantly increases by further growth of the NiO overlayer. The remanent magnetization of the films is found to be modulated by the voltage application. Moreover, a small exchange-bias effect arising from the ferromagnetic-antiferromagnetic interaction at the interface is observed, and the amplitude of the effect is modified by the applied voltage. (C) 2018 The Japan Society of Applied Physics
机译：通过生长NiO覆盖层以及通过NiO / Ni界面施加电压，可以改变在Cu（001）单晶上生长的铁磁Ni薄膜的磁性。随着NiO厚度的增加，会引起从面内磁化到垂直磁化的自旋重取向转变，并且由于NiO覆盖层的进一步生长，矫顽场显着增加。发现膜的剩余磁化强度通过施加电压来调节。而且，观察到在界面处由铁磁-反铁磁相互作用引起的小的交换偏置效应，并且该效应的幅度通过施加的电压而改变。 （C）2018日本应用物理学会

著录项

  • 来源
    《Japanese journal of applied physics》 |2018年第9期|0902B3.1-0902B3.4|共4页
  • 作者

    Amemiya Kenta; Sakamaki Masako;

  • 作者单位

    High Energy Accelerator Res Org, Inst Mat Struct Sci, Tsukuba, Ibaraki 3050801, Japan;

    High Energy Accelerator Res Org, Inst Mat Struct Sci, Tsukuba, Ibaraki 3050801, Japan;

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