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机译:多尺度等离子体和特征轮廓型等离子体增强化学气相沉积和原子层沉积工艺的钛薄膜制造
Tokyo Elect Technol Solut Simulat Technol Dev Dept Nirasaki Yamanashi 4070192 Japan;
America LLC TEL Technol Ctr US Technol Dev Ctr Peabody MA USA;
Tokyo Elect Technol Solut Simulat Technol Dev Dept Nirasaki Yamanashi 4070192 Japan;
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机译:等离子体化学气相沉积和原子层沉积相结合沉积的掺Ge Sb-Te薄膜的生长和相分离行为
机译:氧化镍籽晶层对采用等离子体增强化学气相沉积法制备的退火非晶态二氧化钛薄膜的影响
机译:等离子增强原子层沉积生长的ZnO薄膜:“原子层沉积窗口”内外的材料特性
机译:用于晶体光伏太阳能电池的柔性多晶金属基板上的异质外延硅薄膜:物理气相沉积与等离子体增强化学气相沉积之间的比较
机译:通过等离子体增强的金属有机化学气相沉积法制得的锶钛氧化物和钡(1-x)锶钛氧化物外延薄膜。
机译:通过等离子体增强的原子层沉积使用四甲基(二甲基氨基)钛(TDMAT)和四氯化钛(TiCl4)前体制备的锡薄膜的数据集
机译:通过等离子体增强的化学气相沉积和硅化物 - 包层硅电极形成的相关方法选择性沉积硅化钛膜
机译:通过等离子体增强化学气相沉积沉积的无定形碳膜作为平面化层。