Publisher's Note: 'Electron and hole drift velocity in chemical vapor deposition diamond' [J. Appl. Phys. 109, 063719 (2011)]

Markus Gabrysch; Saman Majdi; Daniel J. Twitchen; Jan Isberg

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【24h】

Publisher's Note: 'Electron and hole drift velocity in chemical vapor deposition diamond' [J. Appl. Phys. 109, 063719 (2011)]

机译：出版者的注释：“化学气相沉积金刚石中的电子和空穴漂移速度” [J．应用物理109，063719（2011）]

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This article was originally published online on 24 March 2011 without all of the authors' corrections. AIP apologizes for these errors. The article was correct as published in the printed version of the journal. All online versions of the article were corrected on 5 April 2011.

机译：本文最初于2011年3月24日在线发布，没有所有作者的更正。对于这些错误，AIP表示歉意。该文章是正确的，在该期刊的印刷版本中已发布。本文的所有在线版本均已在2011年4月5日得到更正。

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来源
《Journal of Applied Physics》 |2011年第10期|p.1077|共1页
作者
Markus Gabrysch; Saman Majdi; Daniel J. Twitchen; Jan Isberg;
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作者单位

Division for Electricity, Uppsala University, Box 534, S-751 21 Uppsala, Sweden;

Division for Electricity, Uppsala University, Box 534, S-751 21 Uppsala, Sweden;

Element Six Ltd, King's Ride Park, Ascot, Berkshire, SL5 8BP, United Kingdom;

Division for Electricity, Uppsala University, Box 534, S-751 21 Uppsala, Sweden;

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收录信息美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
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