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机译:从钨侵蚀过渡到碳层沉积,同时氦和碳同时轰击钨
机译:由于同时轰击等离子体中的氘和铍离子,导致碳和钨上的动态腐蚀和沉积
机译:在暴露于含碳杂质的边缘等离子体的钨表面上的腐蚀与沉积之间的动态过渡
机译:托卡马克聚变环境中氘和碳轰击钨的腐蚀和表面演变的分子动力学模拟
机译:由于氘和铍离子在等离子体中的同时轰击导致碳和钨对碳和钨的动态腐蚀和沉积
机译:通过等离子体增强化学气相沉积合成碳和钨基薄膜。
机译:聚焦离子束诱导沉积生长的厚度调制钨-碳超导纳米结构用于旋涡固定至高磁场
机译:通过同时轰击D和C离子,钨溅射和注入的碳和氘的累积
机译:DIII-D偏滤器中碳和钨侵蚀/沉积的测量