Erratum: “Magnetization dynamics and interface studies in ion-beam sputtered Si/CoFeB (8)/MgO (4)/CoFeB (8)/Ta (5) structures” [J. Appl. Phys. 115, 17D127 (2014)]

Raju M.; Behera Nilamani; Pandya Dinesh K.; Chaudhary Sujeet

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Erratum: “Magnetization dynamics and interface studies in ion-beam sputtered Si/CoFeB (8)/MgO (4)/CoFeB (8)/Ta (5) structures” [J. Appl. Phys. 115, 17D127 (2014)]

机译：勘误表：“离子束溅射Si / CoFeB（8）/ MgO（4）/ CoFeB（8）/ Ta（5）结构中的磁化动力学和界面研究” [J.应用物理115，17D127（2014）]

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来源
《Journal of Applied Physics》 |2014年第23期|1-1|共1页
作者
Raju M.; Behera Nilamani; Pandya Dinesh K.; Chaudhary Sujeet;
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作者单位

Thin Film Laboratory, Department of Physics, Indian Institute of Technology Delhi, New Delhi 110016, India;

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收录信息美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
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