Microstructure of epitaxial rutile TiO_2 films grown by molecular beam epitaxy on r-plane Al_2O_3

著录项

• 来源
  《Journal of Crystal Growth》 |2009年第1期|149-153|共5页
• 作者

  Roman Engel-Herbert; Bharat Jalan; Joeel Cagnon; Susanne Stemmer;

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• 作者单位

  Materials Department, University of California, Santa Barbara, CA 93106-5050, USA;

  Materials Department, University of California, Santa Barbara, CA 93106-5050, USA;

  Materials Department, University of California, Santa Barbara, CA 93106-5050, USA;

  Materials Department, University of California, Santa Barbara, CA 93106-5050, USA;

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• 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
• 原文格式 PDF
• 正文语种 eng
• 中图分类
• 关键词

  A3. Molecular beam epitaxy; B1. Oxides; B1. Titanium compounds; B2. Dielectric materials;

  机译：A3。分子束外延;B1。氧化物;B1。钛化合物B2。介电材料;