Simple technique for measuring the filled volume of liquid or solid CVD precursor chemicals in bubblers

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• 来源
  《Journal of Crystal Growth》 |2008年第10期|p.2673-2677|共5页
• 作者

  David Bour; Zhihong Yang; Chris Chua;

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• 作者单位

  Electronic Materials and Devices Laboratory, Palo Alto Research Center, 3333 Coyote Hill Road, Palo Alto, CA 94304, USA;

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• 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
• 原文格式 PDF
• 正文语种 eng
• 中图分类 晶体学;
• 关键词

  A2. Growth from vapor; A3. Metalorganic chemical vapor deposition; A3. Chemical vapor deposition processes; A3. Organometallic vapor phase epitaxy; A3. Vapor phase epitaxy;

  机译：A2。从蒸气中生长;A3。金属有机化学气相沉积;A3。化学气相沉积工艺;A3。有机金属气相外延;A3。汽相外延;