Vapour pressure and heat capacities of metal organic precursors, Y(thd)_3 and Zr(thd)_4

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• 来源
  《Journal of Crystal Growth》 |2004年第3期|p.192-200|共9页
• 作者

  Michal Fulem; Kvetoslav Ruzicka; Vlastimil Ruzicka; Tomislav Simecek; Eduard Hulicius; Jiri Pangrac;

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• 作者单位

  Department of Physical Chemistry, Institute of Chemical Technology, Prague, Technicka 5, 16628 Prague 6, Czech Republic;

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• 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
• 原文格式 PDF
• 正文语种 eng
• 中图分类 晶体学;
• 关键词

  A1. static method; A1. vapour pressure; A3. metalorganic chemical vapor deposition; B1. Y and Zr precursors; B1. β-diketonate complexes;

  机译：A1。静态方法;A1。蒸气压;A3。金属有机化学气相沉积;B1。 Y和Zr前驱物;B1。 β-二酮酸酯络合物;