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机译:使用UV-A,UV-C和真空UV(VUV)光降解磺胺甲恶唑和甲氧苄啶
Korea Atom Energy Res Inst, Adv Radiat Technol Inst, Jeongeup 580185, South Korea;
Korea Atom Energy Res Inst, Adv Radiat Technol Inst, Jeongeup 580185, South Korea;
Korea Atom Energy Res Inst, Adv Radiat Technol Inst, Jeongeup 580185, South Korea;
UV-C; trimethoprim; photolytic degradation; UV-A; sulfamethoxazole; VUV; Antimicrobials;
机译:UV-A和UV-C诱导的环丙沙星和莫西沙星水溶液的光解和光催化降解:反应动力学和吸附作用Xander Van Doorslaer,Kristof Demeestere,Philippe M. Heynderickx,
机译:在UV-C辐射(λ_(max)= 254 nm)下通过间歇反应器中的光解和光催化过程光去除磺胺甲恶唑(SMX)
机译:在使用UV-C,UV-C / H_2O_2,UV-A / TiO_2和UV-A / TiO_2 / H_2O_2的消毒过程中,新出现的微污染物氧化
机译:纳米QQTOF-MS-MS和LC-MS-MS的组合,用于鉴定水溶液中抗生素磺胺甲氧唑的光解和光催化降解产物
机译:特别 参考其 苯唑青霉素 和 磺胺甲恶唑 / 甲氧苄啶 敏感性 马 金黄色葡萄球菌 菌株的 表征
机译:甲氧苄啶-磺胺甲恶唑多西环素和氯霉素与甲氧苄氨嘧啶-磺胺甲恶唑和多西环素的口服开放性随机对照试验用于维持类痔病
机译:在UV-C辐射(λmax= 254 nm)下通过间歇反应器中的光解和光催化过程光去除磺胺甲恶唑(SMX)