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【24h】

Modeling of Heat Transfer and Kinetics of Physical Vapor Transport Growth of Silicon Carbide Crystals

机译:碳化硅晶体的传热模型和物理气相传输增长的动力学

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摘要

Wide-bandgap silicon carbide (SiC) substrates are needed for fabrication of electronic and optoelectronic devices and circuits that can function under high-temperature, high- power, high-frequency conditions. The bulk growth of SiC single crystal by physical vapor transport (PVT), modified Lely method involves sublimation of a SiC powder charge, mass transfer through an inert gas environment, and condensation on a seed. Temperature distribution in the growth system and growth rate profile on the crystal surface are critical to the quality and size of the grown SiC single crystal.
机译:需要宽带隙的碳化硅(SiC)衬底来制造可在高温,高功率,高频条件下工作的电子和光电设备和电路。 SiC单晶通过物理气相传输(PVT),改良的Lely方法的整体生长包括升华SiC粉末装料,通过惰性气体环境进行质量转移以及在种子上凝结。生长系统中的温度分布和晶体表面上的生长速率曲线对生长的SiC单晶的质量和尺寸至关重要。

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