首页> 外文期刊>日本機械学会誌 >超音波洗浄と気泡
【24h】

超音波洗浄と気泡

机译:超声波清洗和气泡

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
           

摘要

超音波洗浄は,洗浄液に浸した被洗浄体の表面に付着した汚れ(油,微細粒子)の除去に利用され,半導体·光学部品の製造過程において極めて重要なプロセスである.超音波照射による圧力こう配および音響流が,分子間力(ファンデルワールス力など)により固体表面に付着した汚れ粒子に作用し除去を促すと考えられてきた.一方,最近の研究から,超音波照射下の洗浄液中で発生する気泡の運動による液相流動が粒子除去の主要因であると示唆されている.本稿では,液相への超音波照射による気泡発生のメカニズムを解説した後,気泡運動による超音波洗浄の実験例を紹介する.
机译:超声波清洗用于去除已经浸入清洗液中的附着在要清洗的物体表面的污垢(油,细颗粒),这在半导体和光学组件的制造过程中是极为重要的过程。已经认为,梯度和声流通过分子间力(例如范德华力)作用于粘附在固体表面上的污物颗粒上,并促进去除。建议将液晶中产生的气泡运动引起的液相流动作为去除颗粒的主要因素,本文解释了超声波照射液相产生气泡的机理,然后通过气泡运动进行超声波清洗。我将介绍一个实验示例。

著录项

  • 来源
    《日本機械学会誌》 |2016年第1171期|370-370|共1页
  • 作者

    安藤景太;

  • 作者单位

    慶應義塾大学;

  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 jpn
  • 中图分类
  • 关键词

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号