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ガラス研磨用エポキシ樹脂研磨パッドの開発

机译：开发用于玻璃抛光的环氧树脂抛光垫

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摘要

ガラスの鏡面研磨には，高い研磨能率や優れた仕上げ面精度が得られることから，酸化セリウム（CeO_2）砥粒が広く用いられている．その金属元素であるセリウムは，レアアースの一つであり，一国がその供給のほとんどを占めている．昨今のレアアースの輸出制限を受け，酸化セリウム砥粒の供給が不足しており，国内における価格が急騰しているのが現状である．そこで，ガラスの精密研磨における酸化セリウムの使用量を低減する技術や，他の砥粒に代替する技術の開発が急務となっている．
机译：氧化铈（CeO_2）磨料因其高抛光效率和出色的精加工表面精度而广泛用于玻璃的镜面抛光。金属元素铈是稀土之一，其中一个国家占大多数供应量。由于最近对稀土的出口限制，氧化铈磨料的供应短缺，日本目前的价格飞涨。因此，迫切需要开发一种用于减少在玻璃的精密抛光中使用的氧化铈的量的技术和一种用于替代其他磨料颗粒的技术。

著录项

  • 来源
    《日本機械学会誌》 |2012年第1122期|p.268|共1页
  • 作者

    田順二; 谷　泰弘; 広川良一; 野村信幸; 張宇; 宇野純基;

  • 作者单位

    立命館大学理工学部（〒525-8577　草津市野路東1-1-1）;

    立命館大学理工学部（〒525-8577　草津市野路東1-1-1）;

    九重電気（株）（〒259-1146　伊勢原市鈴川16）;

    九重電気（株）（〒259-1146　伊勢原市鈴川16）;

    立命館大学理工学部（〒525-8577　草津市野路東1-1-1）;

    立命館大学理工学部（〒525-8577　草津市野路東1-1-1）;

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