MEMS技術による画像描画用光スキャナの小型化

大平　康隆; 藤田　博之; 年吉　洋

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MEMS技術による画像描画用光スキャナの小型化

机译：MEMS技术用于图像绘制的光学扫描仪的小型化

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MEMS技術（Micro Electro Mechanical Systems）とは，rn半導体微細加工技術等を用いて，シリコン基板上にミリrnメートル寸法の微細な機械構造をマイクロメートル単位のrn精度で設計・製作する技術の総称である．現在では，集rn積回路分野でのMore than Moore的な次世代製造基盤技術rnとして注目されている．MEMS技術の微小光学応用の歴rn史は古く，1967年にはすでにマトリックス型のミラーアrnレイを用いた電光表示板の試作例が報告されている．著者rnらの研究室では1990年代初めからMEMS技術の光通信応rn用を検討しており，最近では二次元画像ディスプレイ用のrn小型光スキャナを企業と共同研究開発した．

机译：MEMS技术（Micro Electro Mechanical Systems）是使用rnn半导体微细加工技术来设计和制造具有微米级精度的硅衬底上的毫米级微机械结构的技术的总称。在那儿。当前，它作为一种超越摩尔的集成电路制造技术而引起了人们的关注。 MEMS技术的微光学应用历史悠久，并且在1967年，已经报道了使用矩阵型镜阵列的电子显示面板的原型的生产。自1990年代初以来，作者的实验室一直在研究MEMS技术在光通信中的应用，最近与公司共同研发了一种用于二维图像显示的小型光学扫描仪。

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来源
《日本機械学会誌》 |2009年第1088期|568-571|共4页
作者
大平　康隆; 藤田　博之; 年吉　洋;
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作者单位

東京大学生産技術研究所　マイクロメカトロニクス国際研究センター〒153-8505　東京都目黒区駒場4-6-1;

東京大学生産技術研究所　マイクロメカトロニクス国際研究センター〒153-8505　東京都目黒区駒場4-6-1;

東京大学生産技術研究所　マイクロメカトロニクス国際研究センター〒153-8505　東京都目黒区駒場4-6-1;

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