机译:通过TOP功能化实现纯净和V掺杂ZnO薄膜中增强的室温铁磁性
Department of Physics, Thin film Laboratory, National Institute of Technology, Tiruchirappalli 620015, India;
Department of Physics, Thin film Laboratory, National Institute of Technology, Tiruchirappalli 620015, India;
机译:在不同衬底温度下沉积的V掺杂ZnO薄膜的微观结构,化学计量比和室温铁磁性能
机译:胺官能化对ZnO薄膜中室温铁磁性的增强机理
机译:Sol-Gel法生长的纯金属和过渡金属掺杂的(Cr,Mn和Ni)掺杂的ZnO纳米晶膜的结构,光学和室温铁磁性能
机译:室温铁磁体和磁带掺杂ZnO射频/直流溅射膜的带隙工程
机译:ZnO和ZnO基薄膜合金退火的函数的温度依赖带边缘分布分析
机译:中性束溅射合成的Cu掺杂ZnO薄膜的增强室温铁磁性和绿色光致发光
机译:C轴取向ZnO:Mn纳米粒子薄膜的高温铁磁排序通过定制衬底温度