• 主题
高级搜索  >
历史搜索 清空历史
首页> 外文期刊>Journal of Materials Research >An introduction to thin film processing using high-power impulse magnetron sputtering
【24h】

An introduction to thin film processing using high-power impulse magnetron sputtering

机译：大功率脉冲磁控溅射薄膜处理简介

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
           
页面导航
  • 摘要
  • 著录项
  • 相似文献
  • 相关主题

摘要

High-power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) is a promising sputtering-based ionized physical vapor deposition technique and is already making its way to industrial applications. The major difference between HiPIMS and conventional magnetron sputtering processes is the mode of operation. In HiPIMS the power is applied to the magnetron (target) in unipolar pulses at a low duty factor (<10%) and low frequency (<10 kHz) leading to peak target power densities of the order of several kilowatts per square centimeter while keeping the average target power density low enough to avoid magnetron overheating and target melting. These conditions result in the generation of a highly dense plasma discharge, where a large fraction of the sputtered material is ionized and thereby providing new and added means for the synthesis of tailor-made thin films. In this review, the features distinguishing HiPIMS from other deposition methods will be addressed in detail along with how they influence the deposition conditions, such as the plasma parameters and the sputtered material, as well as the resulting thin film properties, such as microstructure, phase formation, and chemical composition. General trends will be established in conjunction to industrially relevant material systems to present this emerging technology to the interested reader.
机译：大功率脉冲磁控溅射（HiPIMS）是一种很有前途的基于溅射的电离物理气相沉积技术，并且已经在工业应用中崭露头角。 HiPIMS与常规磁控溅射工艺之间的主要区别在于操作模式。在HiPIMS中，功率以低占空比（<10％）和低频（<10 kHz）的单极性脉冲施加到磁控管（目标），导致峰值目标功率密度约为每平方厘米几千瓦，同时保持平均目标功率密度低到足以避免磁控管过热和目标熔化。这些条件导致产生高密度的等离子体放电，其中大部分溅射材料被离子化，从而为合成定制薄膜提供了新的和增加的手段。在这篇综述中，将详细介绍HiPIMS与其他沉积方法的区别之处，以及它们如何影响沉积条件，例如等离子体参数和溅射材料，以及由此产生的薄膜特性，例如微结构，相的形成和化学成分。将与工业相关的材料系统一起建立总体趋势，以向有兴趣的读者介绍这一新兴技术。

著录项

  • 来源
    《Journal of Materials Research》 |2012年第5期|p.780-792|共13页
  • 作者

    Daniel Lundin; Kostas Sarakinos;

  • 作者单位

    Plasma & Coatings Physics , IFM-Materials Physics, Linkoping University, SE-581 83 Linkoping, Sweden;

    Plasma & Coatings Physics , IFM-Materials Physics, Linkoping University, SE-581 83 Linkoping, Sweden;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
  • 关键词

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱：kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备：11010802029741号 ICP备案号：京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有

  • 客服微信

  • 服务号