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Fabrication of microchannel arrays in borophosphosilicate glass

机译：硼磷硅玻璃中微通道阵列的制作

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Two-dimensional arrays of embedded channels with cross-sectional diameters of 1-3 mu m were fabricated in silica-on-silicon thin film structures. The channel arrays were fabricated using void-forming borophosphosilcate glass (BPSG) deposited by plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) over templates patterned and etched using standard photolithographic methods and reactive ion etching. The size and shape of the channels could be controlled by adjusting the depth, width, and spacing of the template ridges, the dopant levels in the BPSG, and the annealing conditions. Optimization of the channel fabrication process through detailed investigation of the process variables is presented. Potential applications in photonics, sensors, and microfluidics are discussed.
机译：在硅基二氧化硅薄膜结构中制造了横截面直径为1-3微米的嵌入式通道的二维阵列。使用通过等离子体增强化学气相沉积（PECVD）在形成模板的模板上沉积形成空隙的硼磷硅酸盐玻璃（BPSG）来制作通道阵列，该模板使用标准光刻方法和反应性离子刻蚀进行刻蚀。可以通过调节模板脊的深度，宽度和间距，BPSG中的掺杂水平以及退火条件来控制通道的大小和形状。提出了通过对工艺变量进行详细研究来优化通道制造工艺的方法。讨论了在光子学，传感器和微流体学中的潜在应用。

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