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Optimizing SrTiO_3 films on textured Ni substrates using chemical solution deposition

机译：使用化学溶液沉积优化带纹理的Ni基衬底上的SrTiO_3膜

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Chemical solution deposition (CSD) is used to grow high-quality (100)-oriented films of SrTiO_3 (STO) on CSD Ba_(0.2) Ca_(0.8)TiO_3(100) (BCT) templates on textured W-doped Ni(100) (Ni:W) tape substrates. The BCT template films form a thin layer or "skin" that bridges its significant porosity. STO films grown at 1000 deg C appear optimized for heteroepitaxial orientation, surface coverage, and film smoothness. Both interfaces in the STO (100)/BCT(100)/Ni:W(100) stack demonstrate excellent atomic registry and compositional abruptness. Doping STO with a few atomic percent of Nb reduces oxygen diffusion into the film by an order of magnitude and provides greater protection to the Ni interfacial surface from oxidation during the growth of additional functional oxides requiring relatively higher p(O_2) high-temperature processing, such as superconducting YBa_2Cu_3O_(7-delta). CSD growth of BCT and STO also planarizes pre-existing grooves in the Ni:W(100) tapes while maintaining a high degree of orientation by forming facets at the interfaces.
机译：化学溶液沉积（CSD）用于在CSD Ba_（0.2）Ca_（0.8）TiO_3（100）（BCT）模板上的W掺杂Ni（100）模板上生长SrTiO_3（STO）的高质量（100）取向膜）（Ni：W）胶带基材。 BCT模板薄膜形成弥合其显着孔隙率的薄层或“皮肤”。在1000摄氏度下生长的STO薄膜似乎针对异质外延取向，表面覆盖和薄膜光滑度进行了优化。 STO（100）/ BCT（100）/ Ni：W（100）堆栈中的两个接口都表现出出色的原子配准和成分突变。用少量原子百分比的Nb掺杂STO可以将氧气扩散到薄膜中的程度降低一个数量级，并在需要较高p（O_2）高温加工的其他功能性氧化物的生长过程中，为Ni界面提供了更好的保护，使其免受氧化，例如超导YBa_2Cu_3O_（7-delta）。 BCT和STO的CSD生长还可以使Ni：W（100）胶带中预先存在的凹槽平坦化，同时通过在界面处形成刻面来保持高度的定向。

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