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【24h】

Effects of process variables on properties and composition of a-Si:C:H films

机译：工艺变量对a-Si：C：H薄膜性能和成分的影响

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摘要

Physical properties of a-Si:C:H films, including composition, optical constants, microhardness, and surface energy, were investigated. A factorial experimental design was employed to establish the effects of plasma-assisted chemical vapor deposition parameters on the physical properties of the films. The dynamics of the plasma deposition process are discussed in relation to the interactions observed among the process variables and the effects of the variables on the physical properties of the films.
机译：研究了a-Si：C：H薄膜的物理性质，包括组成，光学常数，显微硬度和表面能。采用析因实验设计来建立等离子体辅助化学气相沉积参数对薄膜物理性能的影响。关于在工艺变量之间观察到的相互作用以及变量对薄膜物理性能的影响，讨论了等离子体沉积工艺的动力学。

著录项

  • 来源
    《Journal of Materials Research》 |2003年第1期|p.129-138|共10页
  • 作者

    I.L. Moskowitz; W.A. Lanford; S.V. Babu;

  • 作者单位

    Center for Advanced Materials Processing, Box 5705, Clarkson University, Potsdam, New York 13699;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类 工程材料学;
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