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Thin film microstructure control using glancing angle deposition by sputtering

机译：利用溅射的掠角沉积控制薄膜微结构

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Thin films with microstructures controlled on a nanometer scale have been fabricated using a recently developed process called glancing angle deposition (GLAD) which combines oblique angle evaporation with controlled substrate motion. Critical to the production of GLAD thin films is the requirement for a narrow angular flux distribution centered at an oblique incidence angle. We report here recent work with low-pressure, long-throw sputter deposition with which we have succeeded in fabricating porous titanium thin films possessing "zig-zag," helical, and "pillar" microstructures, demonstrating microstructural control on a level consistent with evaporated GLAD. The use of sputtering for GLAD simplifies process control and should enable deposition of a broader range of thin film materials.
机译：使用最近开发的称为掠角沉积（GLAD）的工艺已经制造出具有可控制在纳米级的微结构的薄膜，该工艺结合了倾斜角蒸发和受控的基板运动。对于GLAD薄膜的生产至关重要的是，要求以斜入射角为中心的窄角通量分布。我们在这里报告了低压，长程溅射沉积的最新工作，通过该工作，我们成功地制造了具有“之字形”，螺旋形和“柱状”微结构的多孔钛薄膜，证明了与蒸发相一致的水平的微结构控制高兴。 GLAD的溅射使用简化了工艺控制，并应能够沉积更多种类的薄膜材料。

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