Fatigue crack growth at stress concentrators under spectrum loading

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• 来源
  《The Journal of Strain Analysis for Engineering Design》 |2005年第2期|p.117-127|共11页
• 作者

  R V Prakash;

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• 作者单位

  Department of Mechanical Engineering, Indian Institute of Technology, Madras, Chennai 600 036, India;

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• 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);
• 原文格式 PDF
• 正文语种 eng
• 中图分类 工程基础科学;
• 关键词

  fatigue crack initiation; notches; FALSTAFF spectrum; crack initiation density; stress level effect; thickness effect; multiple-crack interaction; crack front mapping;

  机译：疲劳裂纹萌生;缺口;FALSTAFF谱;裂纹萌生密度;应力水平效应;厚度效应;多裂纹相互作用;裂纹前测图;