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【24h】

希土類酸化物薄膜の新規な創製法の確立とそのトライボロジー特性（第1報）: アークプラズマと原子状酸素ビームを用いた新しい希土類酸化物薄膜の創製

机译：建立稀土氧化物薄膜的新方法及其摩擦学特性（第1次报告）：利用电弧等离子体和原子氧束制备新型稀土氧化物薄膜

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摘要

近年，レアメタルの枯渇が懸念されている．レアメタルは以前から「産業のビタミン」と呼ばれるなど，産業上の重要性は以前から認識されており，その消費量も年々増加している．%Rare earth metal oxide thin films (Sc_2O_3, Y_2O_3, La_2O_3, CeO_2, Pr_2O_3, Nd_2O_3) were deposited by simultaneous irradiation of an arc plasma and a hyperthermal atomic oxygen beam on a Si(001) substrate in ultra high vacuum of approximately 10"7 Pa. Their tribological properties were investigated by the pin-on-plate friction tester installed in a scanning electron microscope (SEM). Rare earth metal oxide thin films were atomically smooth (Ra_(75)< 1 nm) as analyzed by atomic force microscopy (AFM). X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) combined with an argon ion sputtering revealed that the films were entirely pure and uniform from the top surface to the bottom of the films. Therefore, rare earth oxide thin films were deposited with perfect stoichiometry. Sc_2O_3 thin film, a kind of rare earth metal oxide thin films, deposited at 300C showed the lowest friction coefficient(0.09) of all rare earth metal oxide thin films. In addition, all the oxide thin films had splendid interference color.
机译：近来，稀有金属的消耗是一个问题。长期以来，人们一直认为稀有金属具有工业重要性，例如被称为“工业维生素”，其消费量逐年增加。通过在大约10英寸的超高真空下同时照射电弧等离子体和高温原子氧束，在Si（001）衬底上沉积％稀土金属氧化物薄膜（Sc_2O_3，Y_2O_3，La_2O_3，CeO_2，Pr_2O_3，Nd_2O_3）。 7 Pa。通过安装在扫描电子显微镜（SEM）上的销钉板摩擦测试仪研究了它们的摩擦学性能。通过原子力分析，稀土金属氧化物薄膜是原子光滑的（Ra_（75）<1 nm）。 X射线光电子能谱（XPS）结合氩离子溅射显示出薄膜从上表面到下表面完全纯净且均匀，在那里，稀土氧化物薄膜得以完美沉积化学计量比Sc_2O_3薄膜是一种稀土金属氧化物薄膜，在300°C沉积，显示出所有稀土金属氧化物薄膜的最低摩擦系数（0.09）。此外，所有氧化物薄膜均具有出色的干扰颜色。

著录项

  • 来源
    《润滑》 |2011年第4期|p.264-270|共7页
  • 作者

    原田将伍; 山本俊介; 水本博貴; 永井和広; 大前伸夫;

  • 作者单位

    神戸大学　大学院生（〒657-8501　兵庫県神戸市灘区六甲台町1-1）;

    クボタ（株）（〒556-8601　大阪府大阪市浪速区敷津東1丁目2-47）;

    神戸大学　大学院生（〒657-8501　兵庫県神戸市灘区六甲台町1-1）;

    神戸大学　大学院生（〒657-8501　兵庫県神戸市灘区六甲台町1-1）;

    神戸大学　大学院工学研究科（〒657-8501　兵庫県神戸市灘区六甲台町1-1）;

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