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Structural stabilization and ionic conductivity of bismuth niobium oxide films with fluorite-like structure

机译：萤石状氧化铋铌薄膜的结构稳定性和离子电导率

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摘要

High ionic conductivity Nb-doped fluorite-like delta-Bi2O3 films were produced using confocal magnetron sputtering. The structural stability of the films was evaluated by high-temperature X-ray diffraction showing that the films were stable up to 400 degrees C. The ionic contribution to the total electrical conductivity was demonstrated since the AC-conductivities were three orders of magnitude larger than DC-values. The un-doped S-Bi2O3 film presents high ionic conductivity, but it is lost above 200 degrees C due to structural changes. Meanwhile, the 5.1 at.% of Nb presented ionic conductivity (2.7 x 10(-2) S (cm-1)) larger than other ionic conductors and was stable from room temperature to 400 degrees C. (C) 2020 Elsevier B.V. All rights reserved.
机译：使用共聚焦磁控溅射制备了高离子电导率的掺Nb的萤石状δ-Bi2O3薄膜。通过高温X射线衍射评估膜的结构稳定性，表明膜在高达400℃下是稳定的。由于AC电导率比AC电导率大三个数量级，因此证明了离子对总电导率的贡献。 DC值。未掺杂的S-Bi2O3薄膜具有高离子电导率，但由于结构变化，在200摄氏度以上会丢失。同时，Nb的5.1 at。％呈现出比其他离子导体大的离子电导率（2.7 x 10（-2）S（cm-1）），并且在室温到400摄氏度下都稳定。（C）2020 Elsevier BV All版权所有。

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  • 来源
    《Materials Letters》 |2020年第may15期|127540.1-127540.4|共4页
  • 作者

  • 作者单位

    Univ Nacl Autonoma Mexico Inst Invest Mat Circuito Exterior S-N Ciudad De Mexico 04510 Mexico;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
  • 关键词

    Bismuth oxide; Magnetron sputtering; Thermal stability; Impedance spectroscopy;

    机译：氧化铋磁控溅射;热稳定性;阻抗谱;

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