Diffusion of hydrogen in silicon: Diffusion-reaction model

Robert H. Doremus

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Diffusion of hydrogen in silicon: Diffusion-reaction model

机译：氢在硅中的扩散：扩散反应模型

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A diffusion-reaction model is proposed as the mechanism for the diffusion of hydrogen in amorphous and crystalline silicon. In this model molecular hydrogen dissolves and diffuses interstitially in the open silicon structure. Dissolved molecular hydrogen reacts with sili- con to form SiH groups. Equations derived for this mod- el give profiles that fit well with experimental hydrogen profiles in amorphous silicon. Other experimental fea- tures, such as steps in hydrogen and deuterium concen- trations at interfaces, exponential profiles at short times, and a decrease of the effective diffusion coefficient with increasing tie, arise naturally in the diffusion-reaction model.

机译：提出了扩散反应模型作为氢在非晶硅和晶体硅中扩散的机理。在该模型中，分子氢在敞开的硅结构中溶解并扩散。溶解的分子氢与硅反应形成SiH基团。为该模型推导的方程式给出的曲线与非晶硅中的实验氢曲线非常吻合。在扩散反应模型中自然会产生其他实验特征，例如界面中氢和氘浓度的阶跃，短时间的指数分布以及有效扩散系数随束缚度的降低而降低。

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来源
《Materials Research Innovations》 |2000年第1期|p.49-59|共11页
作者
Robert H. Doremus;
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收录信息美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
原文格式 PDF
正文语种 eng
中图分类一般工业技术;
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