机译:Ce掺杂Bi12SiO20单晶的空间生长研究
Shanghai Institute of Ceramics, Chinese Academy of Sciences, 1295 Dingxi Road, Shanghai 200050, China;
Bridgman technique; Crystal growth; Bismuth compounds; Doping effects; Microgravity condition;
机译:Eu3 +掺杂Bi12SiO20和Bi12SiO20:V5 +单晶的晶体场研究
机译:浮动区法固溶的Bi12SIO20单晶的生长晶体学
机译:Bi12SiO20单晶的生长和光学性质
机译:Ce掺杂Bi12Sio20晶体在空间生长中的缺陷分析
机译:草酸镉单晶的晶体生长及性能评价研究。
机译:高效铈掺杂w-AlN单晶中发光中心的原子结构
机译:微重力对Ce掺杂Bi12siO20晶体缺陷的影响
机译:电光单晶硅酸铋(Bi12siO20)熔体生长过程中重力相关缺陷形成的识别与控制