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首页> 外文期刊>Microelectronic Engineering >Ultra-smooth LiNbO_3 micro and nano structures for photonic applications
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Ultra-smooth LiNbO_3 micro and nano structures for photonic applications

机译：用于光子应用的超光滑LiNbO_3微米和纳米结构

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摘要

We report on two approaches to achieve ultra-smooth structures on lithium niobate (LiNbOs) substrates. The first method relies on ICP-RIE (inductively coupled-reactive ionic etching) or on RIE, and is exploited here for the fabrication of rods with smooth etched surfaces. A series of tests have been performed with fluorine gases. Nanometric rods with 200, 400 or 600 nm diameters, with a periodicity of 400, 800 and 1200 nm respectively and etched angles close to 68° for the RIE process and 75° for the ICP-RIE process have been fabricated. The second process is based on "optical grade dicing" and is dedicated to the fabrication of deep-etched ridge waveguides. First optical characterization results are reported. They show optical propagation losses value close to 0.1 dB/cm.
机译：我们报告了两种方法来实现铌酸锂（LiNbOs）基板上的超光滑结构。第一种方法依赖于ICP-RIE（感应耦合-反应性离子刻蚀）或RIE，在这里被用于制造具有光滑刻蚀表面的棒材。已经对氟气进行了一系列测试。已制造出直径分别为200、400或600 nm，周期性为400、800和1200 nm的纳米棒，对于RIE工艺，其蚀刻角接近68°；对于ICP-RIE工艺，其蚀刻角接近75°。第二种工艺是基于“光学级切割”的，它专门用于深蚀刻的脊形波导的制造。报告了第一光学表征结果。它们显示的光传播损耗值接近0.1 dB / cm。

著录项

  • 来源
    《Microelectronic Engineering》 |2011年第8期|p.2417-2419|共3页
  • 作者

    Gwenn Ulliac; Blandine Guichardaz; Jean-Yves Rauch; Samuel Queste; Sarah Benchabane; Nadege Courjal;

  • 作者单位

    FEMTO-ST Institute, 18 rue Alain Savary, Besanfon 25000, France;

    FEMTO-ST Institute, 18 rue Alain Savary, Besanfon 25000, France;

    FEMTO-ST Institute, 18 rue Alain Savary, Besanfon 25000, France;

    FEMTO-ST Institute, 18 rue Alain Savary, Besanfon 25000, France;

    FEMTO-ST Institute, 18 rue Alain Savary, Besanfon 25000, France;

    FEMTO-ST Institute, 18 rue Alain Savary, Besanfon 25000, France;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
  • 关键词

    linbo_3; rie; icp-rie; optical grade dicing;

    机译：linbo_3;rie;icp-rie;光学级划片;

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