...
  • 主题
高级搜索  >
历史搜索 清空历史
首页> 外文期刊>Microelectronic Engineering >Electromagnetic force-assisted imprint technology for fabrication of submicron-structure
【24h】

Electromagnetic force-assisted imprint technology for fabrication of submicron-structure

机译：电磁力辅助压印技术用于制造亚微米结构

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
           
页面导航
  • 摘要
  • 著录项
  • 相似文献
  • 相关主题

摘要

This paper reports a novel imprint technique for fabrication of polymeric submicron-scale structures. In use of electromagnetic force to press the magnetic stamp written with submicron-scale structures into a UV-curable resist on the substrate, the liquid photopolymer can be patterned at room temperature. In this study, an electromagnetic force assisted imprinting facility with UV exposure capacity has been designed, constructed and tested. Under the proper processing conditions, the polymeric submicron-scale structure with feature size of 500 nm across a 150 mm~2 area can be successfully fabricated. Scanning electron microscopy (SEM) and atomic force (AFM) observations confirm that the submicron-scale polymer structures are produced without defects or distortion and with good pattern fidelity over a large area. This technique shows the potential for efficient fabrication of submicron-scale structures at room temperature and low pressure on large substrates with high productivity at low cost.
机译：本文报道了一种用于制造聚合物亚微米级结构的新型压印技术。在利用电磁力将写有亚微米级结构的磁性印模压入基板上的可紫外线固化的抗蚀剂时，可以在室温下对液态光敏聚合物进行构图。在这项研究中，已经设计，构造和测试了具有紫外线曝光能力的电磁力辅助压印设备。在适当的加工条件下，可以成功地制作出特征尺寸为150 nm〜2的面积为500 nm的聚合物亚微米级结构。扫描电子显微镜（SEM）和原子力（AFM）观察证实，所生产的亚微米级聚合物结构没有缺陷或变形，并且在大面积上具有良好的图案保真度。该技术显示了在室温下和低压下以高生产率，低成本高效制造亚微米级结构的潜力。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱：kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备：11010802029741号 ICP备案号：京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有

  • 客服微信

  • 服务号