Fabrication of 128 X 128 element optical switch array by micromachining technology

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• 来源
  《Microprocessors and microsystems》 |2005年第1期|p.21-25|共5页
• 作者

  S.B. Wang; S.B. Zhou; G. Huang; B.F. Xiong; S.H. Chen; X.J. Yi;

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• 作者单位

  Department of Opto-electronics Engineering, Huazhong University of Science and Technology, 430074 Wuhan, PR China;

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• 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);
• 原文格式 PDF
• 正文语种 eng
• 中图分类 计算技术、计算机技术;
• 关键词

  vanadium oxide thin films; ion beam sputtering; temperature coefficient of resistance; photolithography; 128 X128 element; infrared optical switch array;

  机译：氧化钒薄膜;离子束溅射;电阻温度系数;光刻;128 X128元件;红外光开关阵列;