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Effects of Thin Film Deposition on Fabrication of Switchable Mirror

机译：薄膜沉积对可切换反射镜制造的影响

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In this paper we studied switchable mirrors for application to transparent flat panel displays. The typical structure of switchable mirror has configuration of MgNi/Pd/Ta2O5/HxWO3/ITO. In this study photocatalyst layer (TiO2 or Nb2O5) was used between Pd and Ta2O5 layers. These layers were prepared by RF magnetron sputtering method utilizing TiO2 and Nb2O5 targets under various conditions and their electrochromic properties were investigated by using FE-SEM, EDAX and Nano View system. The transmittances of the Nb2O5 and the TiO2 thin films, could be optimized in the switchable mirror as photocatalyst layer, where they were deposited under the power of 80 W and 70 W, respectively, by the RF magnetron sputter. The characteristics of Nb2O5 and TiO2 transmittance are the outstanding at 80 W, 70 W respectively.
机译：在本文中，我们研究了可开关镜在透明平板显示器上的应用。可切换反射镜的典型结构为MgNi / Pd / Ta 2 O 5 / HxWO 3 / ITO。在这项研究中，光催化剂层（TiO 2 或Nb 2 O 5 ）用于Pd和Ta 2 O之间 5 层。通过在不同条件下利用TiO 2 和Nb 2 O 5 靶材通过RF磁控溅射法制备这些层，并通过使用它们研究了它们的电致变色性能。 FE-SEM，EDAX和Nano View系统。 Nb 2 O 5 和TiO 2 薄膜的透射率可以在可转换反射镜中作为光催化剂层进行优化，其中射频磁控溅射分别在80 W和70 W的功率下沉积。 Nb 2 O 5 和TiO 2 的透射率分别在80 W和70 W时表现优异。

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