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A giant bid to etch tiny circuits

机译:蚀刻微小电路的巨大尝试

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摘要

Consumers take it for granted that their mobile phones and laptops will get faster and more powerful with each generation. After all, the semiconductor industry has always made it so, by doubling the number of transistors it can fit onto a microchip every couple of years. But current techniques are reaching their limit. Now, the industry is racing to develop an economically viable way to etch even smaller features onto microchips. The solution could be a technique called extreme-ultraviolet (EUV) lithography, which uses very-short-wavelength light to create features that are four times finer than those on current microchips. But overcoming the chemistry, physics and engineering challenges involved is costing the industry billions of dollars.
机译:消费者理所当然地认为,他们的手机和笔记本电脑将随着每一代人的发展而变得更快,更强大。毕竟,半导体行业一直做到这一点,方法是每两年将可安装在微芯片上的晶体管数量加倍。但是目前的技术正在达到极限。现在,该行业正在竞相开发一种经济可行的方法,以将更小的特征蚀刻到微芯片上。解决方案可能是一种称为极紫外(EUV)光刻的技术,该技术使用非常短波长的光来创建比当前微芯片精细四倍的特征。但是克服化学,物理和工程方面的挑战使该行业损失了数十亿美元。

著录项

  • 来源
    《Nature》 |2012年第7408期|p.419|共1页
  • 作者

    KATHERINE BOURZAC;

  • 作者单位
  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);美国《化学文摘》(CA);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
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