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首页> 外文期刊>日経マイクロデバイス >明視野で正反射光を使う検出手法に空間フィルタを組み合わせ感度向上
【24h】

明視野で正反射光を使う検出手法に空間フィルタを組み合わせ感度向上

机译：通过将空间滤镜与在明场中使用镜面反射光的检测方法相结合来提高灵敏度

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摘要

設計ルールの微細化によって，デバイス製造rn工程内では，これまで問題にならなかった欠陥rnが歩留まりに影響する場合がある。この結果，rnプロセスやウエーハ品質の管理に対する要求はrnますます高まっている。検査装置への要求もまrnすます高度化している。rn30nm世代のプロセスでは，暗視野方式ではrn検出が難しい欠陥が問題になってきている。例rnえば（1）散乱光強度の低い欠陥である研磨工程rnに起因する線状の欠陥，結晶欠陥，エビ・ウrnエーハの欠陥，（2）膜付きウエーハ上の微小rnパーティクル，（3）デバイス活性層の結晶欠陥rn（COP），などである。われわれは，こうした欠rn陥を検出できる手法を開発した。
机译：由于设计规则的小型化，迄今为止尚未成为问题的缺陷rn可能会影响器件制造过程中的成品率。结果，对加工和晶片质量控制的需求不断增加。对检查设备的需求变得越来越复杂。在30nm的生成过程中，用暗场方法难以检测到的缺陷正成为一个问题。例如，（1）由于抛光工艺rn引起的线性缺陷，这些缺陷是具有低散射光强度的缺陷，晶体缺陷，虾和wafer晶片缺陷;（2）涂膜晶片上的小rn颗粒;（3 ）器件有源层晶体缺陷rn（COP）等我们已经开发出一种可以检测这些缺陷的方法。

著录项

  • 来源
    《日経マイクロデバイス》 |2009年第294期|93-94|共2页
  • 作者

    関　寛和;

  • 作者单位

    レーザーテック　技術本部　技術1部;

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  • 正文语种 jpn
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