デバイス特性の限界突破に向けてナノインプリントに脚光

河合　基伸

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デバイス特性の限界突破に向けてナノインプリントに脚光

机译：纳米压印技术已受到关注，以突破设备特性的界限

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ナノインプリント技術を利用した電子デバイスの量産が，2010年以降に次々と始まる。用途は，rnFPDやHDD,LSIなど，あらゆる電子デバイスに及ぶ。デバイス?メーカーはナノインプリントrnを利用して，電子デバイスの特性を高めながら低コスト化するという一挙両得を狙う。デバイス?rnメーカーが本腰を入れたことで，ナノインプリントの開発に拍車がかかる。微細パターンの形成rn手法が，従来のリソグラフィからナノインプリントへと切り替われば，マスクやレジスト,製造rn装置に至るまで，製造関連の装置と部材が一新されるため，関連メーカーへの影響は甚大である。

机译：使用纳米压印技术的电子设备的大规模生产将于2010年陆续开始。应用包括rnFPD，HDD和LSI等所有电子设备。设备制造商将使用纳米压印技术来改善电子设备的特性，同时降低成本。纳米压印的发展将因设备制造商付出了巨大的努力而加速。如果将形成精细图案的方法从传统的光刻技术转换为纳米压印技术，则与制造相关的设备和组件（例如掩模，抗蚀剂和制造设备）将彻底更新，这将极大地影响相关的制造商。是的。

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来源
《日経マイクロデバイス》 |2008年第275期|36-41|共6页
作者
河合　基伸;
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