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液浸技術に対応する空間像マスク検査装置See What You Print

机译:浸入式技术的航空影像掩模检查设备,请参见打印

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摘要

半導体業界はムーアの法則に沿って急速な進歩を遂げ ているが、このことはウェーハ上に転写されるパターンの 継続的な微細化からも見て取れる。こうしたパターンは、光 学リソグラフィー工程によりフォトマスクから転写される もので、最先端のプロセスでは波長193nmのArFリソグラ フィーと液浸光学系および最先端のステッパーを使用し、 40nmの転写解像度も実現可能となっている。
机译:半导体行业已经按照摩尔定律迅速发展,这可以从晶圆上转印图案的持续小型化中看出。这些图案是通过光学光刻工艺从光掩模上转印而来的,最先进的工艺使用波长为193 nm的ArF光刻,浸没光学器件和最先进的步进器,可以实现40 nm的转印分辨率。已经成为。

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