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【24h】

65nm以降のマスク・コスト削減策LSIメーカーの設計データを活用: 大日本印刷などが2007年末にシステム稼働

机译:适用于65nm及以下工艺的掩模/降低成本措施利用LSI制造商的设计数据:Dai Nippon Printing等公司于2007年底开始系统运行

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摘要

LSIの65nm以降への微細化に伴って高騰する露光用マスクのコスト削減に,マスク・メーカーやLSIメーカー,そしてマスク描画装置メーカーが本腰を入れ始めた。マスク大手の大日本印刷とDFM(design for manufacturability)サービスを手掛ける米Takumi Technology Corp.は,LSIメーカーのマスク設計データを活用してマスク欠陥の修正の負荷を軽減するためのシステム作りに乗り出した。
机译:掩模制造商,LSI制造商和掩模拉丝设备制造商已开始做出认真的努力,以降低曝光掩模的成本,随着LSI变得更细,超过65 nm,该成本正在飞涨。位于美国的Takumi Technology Corp.,与主要的口罩制造商Dai Nippon Printing和DFM(可制造性设计)服务打交道。已经开始创建一种利用LSI制造商的掩模设计数据来减轻掩模缺陷校正负担的系统。

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