オーバレイ解析の精度を改善する

Chris A.Mack

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オーバレイ解析の精度を改善する

机译：提高重叠分析的准确性

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オーバレイ誤差の管理限界の目安は最小パターンサイズの3分の1である。例えば65nmノードの場合、総許容誤差が約20nmであるということになる。数年前までは影響は小さいということで放置しても差し支えなかった問題でも、現在では無視できない重大な管理項目として注目すべきものが出てきている。高次モデル項、レンズおよびレチタル起因の誤差、スキャナと呼ばれる露光装置に特有の誤差などである。

机译：重叠误差控制极限的准则是最小图案尺寸的三分之一。例如，对于65nm节点，总容差约为20nm。甚至由于几年前影响很小而可以忽略的问题，现在也有一些重要的控制项目不可忽视。这些是高级模型术语，由透镜和标线引起的误差，以及称为扫描仪的曝光设备所固有的误差。

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来源
《日経マイクロデバイス》 |2006年第258期|32|共1页
作者
Chris A.Mack;
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收录信息
原文格式 PDF
正文语种 jpn
中图分类无线电电子学、电信技术;
关键词

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