Electron Beam Writing System for X-ray Masks

Nobuo Shimazu; Tetsuo Morosawa; Ken-ichi Saito; Tatsuya Kunioka; Yuji Takeda; Toshifumi Watanabe

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Electron Beam Writing System for X-ray Masks

机译：X射线口罩电子束写入系统

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The replication of LSI mask patterns on a wafer using X-rays requires an extremely accurate X-ray mask on which an enormous number of fine patterns must be accurately written. NTT has been developing an e-beam writer that draws mask patterns with an electron beam.

机译：使用X射线在晶圆上复制LSI掩模图案需要非常精确的X射线掩模，其上必须精确地写入大量精细图案。 NTT一直在开发一种电子束书写器，该电子束书写器利用电子束绘制掩模图案。

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来源
《NTT Review》 |1998年第6期|p.65-69|共5页
作者
Nobuo Shimazu; Tetsuo Morosawa; Ken-ichi Saito; Tatsuya Kunioka; Yuji Takeda; Toshifumi Watanabe;
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原文格式 PDF
正文语种 eng
中图分类无线电电子学、电信技术;
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