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机译:DC-MFCAD制备的N掺杂碳膜的组成,力学性能和电性能的研究
Key Laboratory of Biomaterial Surface Modification of Sichuan, Laboratory of Advanced Materials Processing of Chinese Education Ministry, Southwest Jiaotong University, Chengdu 610031, PR China;
N-doped carbon film; Raman spectra; mechanical property; hall effect;
机译:研究沉积温度和氮含量对通过直流磁控溅射制备的N掺杂SnO2膜的结构,光学和电性能的影响
机译:在低底物温度下制备含氮金刚石状碳/钨和含氮金刚石碳/碳化钨多层膜的电阻率和机械性能
机译:通过脉冲过滤阴极真空电弧沉积Zn_xN_y薄膜的热氧化制备的N掺杂ZnO薄膜的结构,光学和电学性质
机译:施加直流偏置电压对PECVD制备的氮化碳膜的成分,化学键合和力学性能的影响
机译:聚乙烯醇/木材衍生的碳薄膜的开发:加工参数对机械,热和电性能的影响
机译:金属热分解法制备的(NixMn1-x)0.84Cu0.16 3O4薄膜的电性能与阳离子分布的相关性
机译:用壁炉蛋白射频磁控溅射制备的碳膜的机械和电性能。
机译:阴极电弧沉积制备非晶态硬碳薄膜的力学性能