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Wytwarzanie struktur poprzez osadzanie powierzchniowe

机译：通过表面沉积生产结构

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Na podstawie literatury przedstawiono wybrane metody osadzania powierzchniowego, takie jak: litografia, fizyczne osadzanie z fazy gazowej (PVD - Physical Vapor Deposition), chemiczne osadzanie z fazy gazowej (CVD - Chemical Vapor Deposition), osadzanie elektrochemiczne oraz metody wspomagane laserem, np. bezprądowe osadzanie chemiczne wspomagane laserowo (LEEP - Laser-Enhanced Electroless Plating) i chemiczne osadzanie z fazy gazowej wspomagane wiązką laserową (LCVD -Laser Chemical Vapor Deposition).%The paper presents a family of methods for The paper presents a family of methods for surface deposition process. Some selected methods of Direct Writing have been discussed such as lithography, physical vapor deposition (PVD), chemical Vapor Deposition (CVD), electrochemical deposition and laser--assisted methods such as laser-enhanced electroless plating (LEEP), laser chemical vapor deposition (LCVD). Some results of research available in the literature are shown.
机译：根据文献，介绍了选定的表面沉积方法，例如光刻，物理气相沉积（PVD），化学气相沉积（CVD），电化学沉积和激光辅助方法，例如无电沉积。激光增强化学镀（LEEP）和激光辅助气相沉积（LCVD-激光化学气相沉积）本文提出了一系列的方法本文提出了一系列的表面沉积方法处理。已经讨论了一些直接书写的选择方法，例如光刻，物理气相沉积（PVD），化学气相沉积（CVD），电化学沉积和激光辅助方法，例如激光增强化学镀（LEEP），激光化学气相沉积（LCVD）。显示了文献中可获得的一些研究结果。

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