Application of Huygens-Fresnel diffraction principle for high aspect ratio SU-8 micro-anotip array

Seok Woo Lee and Seung S. Lee

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Application of Huygens-Fresnel diffraction principle for high aspect ratio SU-8 micro-anotip array

机译：惠更斯-菲涅耳衍射原理在高长宽比SU-8 micro / nanotip阵列中的应用

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A high-aspect-ratio (~30) SU-8 micro-anotip array whose shape is defined by diffraction was fabricated by a single UV photolithography procedure and its exposed dose control. The fabrication result of the tip agrees well with the Rayleigh-Sommerfeld solution of the Huygens-Fresnel principle at wide observation distances. In a near field below distance 2 μm (only several times of wavelength), necking points also agree with the solution, although it is assumed that the distance is much larger than wavelength. It can be also applied to control the shape of the tip and to determine the critical dose Dc of SU-8 and other photocurable polymers.

机译：一种高纵横比（〜30）SU-8微型/ nanotip阵列，其形状由衍射确定，是通过单个UV光刻程序及其曝光剂量控制来制造的。尖端的制造结果与惠更斯-菲涅耳原理的Rayleigh-Sommerfeld解决方案在较宽的观察距离上非常吻合。在距离小于2μm（仅是波长的几倍）的近场中，缩颈点也与解决方案一致，尽管假定距离远大于波长。它也可用于控制尖端的形状并确定SU-8和其他可光固化聚合物的临界剂量Dc。

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来源
《Optics Letters》 |2008年第1期|p.40-42|共3页
作者
Seok Woo Lee and Seung S. Lee;
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作者单位

Department of Mechanical Engineering, Korea Advanced Institute of Science and Technology, 373-1 Guseong-dongYuseong-gu, Daejeon, South Korea;

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收录信息
原文格式 PDF
正文语种 eng
中图分类
关键词
high-aspect-ratio; Rayleigh-Sommerfeld solution; distance;

机译：高纵横比;Rayleigh-Sommerfeld解;距离;

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